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1200℃雙管滑動式單溫區(qū)/多溫區(qū)CVD系統(tǒng)
更新時間： 2024-10-28
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產(chǎn)品報價：
產(chǎn)品簡介： 產(chǎn)品用途：此款CVD系統(tǒng)是專門為在金屬箔上生長薄膜而設計，特別是應用在新一代能源關于柔性金屬箔電極方面的研究，通過滑動爐實現(xiàn)快速加熱和冷卻。
詳細資料：
1200℃雙管滑動式單溫區(qū)/多溫區(qū)CVD系統(tǒng)產(chǎn)品用途：
此款CVD系統(tǒng)是專門為在金屬箔上生長薄膜而設計，特別是應用在新一代能源關于柔性金屬箔
電極方面的研究，通過滑動爐實現(xiàn)快速加熱和冷卻。
產(chǎn)品組成：
CVD系統(tǒng)配置：
1、1200度開啟式真空管式爐（可選配單溫區(qū)及雙溫區(qū)）。
2、滑動系統(tǒng)分為手動、電動滑動，并配有風冷系統(tǒng)。
3、內(nèi)外雙石英管，采用真空可通氣氛雙法蘭特殊連接。
4、多路氣體流量控制系統(tǒng)（質(zhì)子流量控制器和浮子流量控制器）
5、真空系統(tǒng)（可選配中真空或高真空）
1200℃雙管滑動式單溫區(qū)/多溫區(qū)CVD系統(tǒng)產(chǎn)品特點：
1、控制電路選用模糊PID程控技術，該技術控溫精度高，熱慣性小，溫度不過沖，性能可靠，操作簡單。
2、中真空系統(tǒng)具有真空度上下限自動控制功能，高真空系統(tǒng)采用高壓強，耐沖擊分子泵，防止意外漏氣造成分子泵損壞，延長系統(tǒng)使用壽命。
3、(電動)滑動系統(tǒng)采用溫度控制器自動控制爐體移動，等程序完成，爐體按設定的速度滑動，因有滑動限位功能，爐體不會發(fā)生碰撞，待樣品露出爐體后，通過風冷系統(tǒng)快速降溫。
4、雙管真空密封法蘭，反應氣體可以在內(nèi)外管之間發(fā)生反應，冷卻氣體可通過內(nèi)管，從而使內(nèi)管外壁溫度降低。
產(chǎn)品圖片：
技術參數(shù)：
| 系統(tǒng)名稱 | 1200℃雙管滑動式單/多溫區(qū)CVD系統(tǒng) | |
| 系統(tǒng)型號 | CVD-12II6SH-3Z/G | CVD-12III9SH-3Z/G |
| 極限溫度 | 1200℃ | |
| 加熱區(qū)長度 | 610mm | 940mm |
| 恒溫區(qū)長度 | 400mm | 700mm |
| 溫區(qū) | 雙溫區(qū) | 三溫區(qū) |
| 石英管管徑 | 內(nèi)管：Φ80mm 外管：Φ100mm | |
| 額定功率 | 4.8Kw | 7.2Kw |
| 額定電壓 | 220V | 380V（三相） |
| 滑動距離 | 485mm | 650mm |
| 滑動方式 | 手動滑動/自動滑動(由溫度控制器自動控制移動，當程序完成，爐子按設定的速度滑動） | |
| 溫度控制 | 國產(chǎn)程序控溫系統(tǒng)50段程序控溫； | |
| 控制精度 | ±1℃ | |
| 爐管極限工作溫度 | ＜1200℃ | |
| 雙管法蘭連接 | 采用雙法蘭雙卡箍連接可擴展多功能，并且分別獨立對內(nèi)管和外管進行真空和氣體流量控制.密封法蘭與管件連接的地方采用多環(huán)密封技術，在密封法蘭與管外壁間形成了密封，在管件外徑誤差較大的情況下密封仍然有效，該密封法蘭的安裝只需在*使用設備的時候安裝 | |
| 氣體控制方式 | 質(zhì)量流量計 | |
| 氣路數(shù)量 | 3路（可根據(jù)具體需要選配氣路數(shù)量） | |
| 流量范圍 | 0-500sccm(標準毫升/分，可選配）氮氣標定 | |
| 精度 | ±1%F.S | |
| 響應時間 | ≤4sec | |
| 工作溫度 | 5-45℃ | |
| 工作壓力 | 進氣壓力0.05-0.3Mpa(表壓力） | |
| 系統(tǒng)連接方式 | 采用KF快速連接波紋管、高真空手動擋板閥及數(shù)顯真空測量儀 | |
| 規(guī)格 | 高真空 | |
| 系統(tǒng)真空范圍 | 1x10-3Pa-1x10-1Pa | |
| 真空泵 | 真空分子泵理論極限真空度 | |
| 爐體外形尺寸 | 480×770×605mm | 410×1100×605mm |
| 系統(tǒng)外形尺寸 | 530×1440×750mm(不含高真空) | |
| 系統(tǒng)總重量 | 340Kg | |
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